得罪国内巨头，也要挖走科技人才
来源：未知
时间：2020-10-18 09:37
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得罪国内巨头，也要挖走科技人才
华为最近一直在招收光刻工艺工程师，似乎是要搞大动作，但是国内的半导体制造水平是人尽皆知，哪有那么多的光刻工艺工程师，华为多吃一口，国内的半导体制造公司就少吃一口。华为想要招聘光刻机工艺工程，那就只能是“挖人”了。
最近就有消息流出，华为“挖”上海微电子的“人才”，华为HR有多厉害，肯定不用多少，华为阿里是各自行业里薪资待遇最好的。据说上海微电子除了总经理外都接到过华为HR的电话，而且已经有不少人是跳槽了。
但是华为这样“得罪”人，能够“渡劫”成功呢？
光刻机制造技术跟光刻技术是两码子事，在2000年，台积电的林本坚说了这样一句话：“如果用水作为光的介质，那么用193纳米就可以赶超157纳米的干式光刻技术”。浸润式跟干式的区别就是光介质的区别，一个是水，一个是空气。
当时林本坚提出这个浸润式技术以后，是平地一声雷，各大厂商都在谈论林本坚的浸润式技术，会不会短路啊？光刻机要怎么改进啊？光刻胶是不是也要改进？诸如此类的问题，所以研发浸润式的光刻机是迫在眉睫。
在这种情况之下，台积电的张忠谋、蒋尚义、林本坚，轮流去拜访英特尔、IBM、尼康等半导体的大佬，林本坚一方面带领团队做实验，一边写论文，这时候荷兰的阿斯麦很聪明，要跟台积电合作。
在阿斯麦的居中统筹和台积电的努力之下，集中了当今工业的成就，在制造出来了浸润式的光刻机，后面再由林本坚带领团队一点点地改进工艺制程，才将工艺提升到了现在的5nm，不过林本坚已经在2018年的时候退休，现在在清华大学教书育人。
所以华为这么“挖人”，其实能不能渡过难关，很难说，因为没有光刻机，有再多的光刻工艺工程师也没有用，而光刻机这个东西很考验一个国家的工业基础，华为再厉害也很难。
最近据说松下有想法跟华为合作，如果是这样还有搞头，因为松下在半导体制造领域发展了半个世纪，半导体晶圆厂房都是现有的，而且连上游的半导体材料技术也是很成熟，如果华为能找到一个这样的合作伙伴，那么就有戏。
华为在印度发展手机的时候，小米、OPPO、vivo等手机厂商发展得红红火火，华为也是“挖人”，除了一般的导购不“挖”，像什么业务员，过去华为就是主管，主管过去变区域经理。最终的华为也没有搞出什么火花。
像半导体制造行业，不是有“狼性”和“冲劲”就可以解决的，除非是中芯国际的创始人张汝京出马，他有着“建厂狂魔”的称号，在一两年的时间内就建好半导体制造的厂房，但是人家在半导体行业有几十年的“内功”，华为就有点悬了。
