他60岁创业，用14年造出5纳米芯片蚀刻机
来源：未知
时间：2020-01-31 09:45
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他60岁创业，用14年造出5纳米芯片蚀刻机
在如今互联网发展迅猛的今天，可能已经很少有人再去回忆那个半导体的时代，但其实如果没有半导体产业的发展基础，我们现在正经历的互联网时代就可能不会到来。我们现在所使用的电脑、手机等等，其实其核心技术都是用硅制造的。而半导体的研发则主要就是单晶硅片的制造、IC设计、IC制造和IC封测等的研发。而所有这些研发都需要有很重要的软件和硬件装备。
单晶炉等设备是研发单晶硅片的最主要设备，而光刻机、刻蚀机、薄膜设备等则主要是为了IC制造而存在。目前荷兰是光刻机设备的主要制造商，中国在IC制造上，所持有的设备是蚀刻机设备，而我国现在掌握的蚀刻机设备技术在世界上都属于数一数二的水平。
我国的刻蚀机设备技术的成功要发要从尹志尧创立的中微半导体设备（上海）有限公司说起，当年，尹志尧从中国科学技术大学毕业后，在美国的企业任职，他主要从事的职业便是和电浆蚀刻有关，同时，在国外工作的几十年，他在半导体领域获得了高达60多项的专利。在一次设备展上，上海经委副主任江上舟偶遇尹志尧，江上舟谈到国家多年来在刻蚀机工艺上一直受制于人，无法自发研制属于自己的刻蚀机设备，他希望尹志尧能回国和他一起为国家填补这项技术空白，尹志尧毫不犹豫的选择回国，与江上舟共同创建了中微半导体设备（上海）有限公司，当年尹志尧已经60岁高龄。很快，2008年，中微公司便研发出了12英寸的刻蚀设备。随着科学技术的发展，社会对于刻蚀设备的要求越来越高，中微公司在刻蚀设备的研发上，主要攻关的是介质刻蚀工艺，相当于在一颗米粒上雕刻十亿个字的工艺水准，这种技术在世界上都是绝对领先的工艺。中微公司的先进工艺已经在全国各地拿到了众多订单。
中微公司在刻蚀工艺上仍然在不断探索，2017年，中国早美国一步宣布掌握5nm技术，中国在刻蚀工艺设备的研发上第一次超越美国，站在了世界最高峰。中微公司创立于2004年，而2018年，我国的刻蚀工艺就站在了世界最高点，我国仅用14年的时间就打破美国对我国刻蚀工艺的封锁，成功逆袭。
中微公司的脚步仍然没有停止，他们除了主要研发介质刻蚀外，还关注硅刻蚀、金属刻蚀，同时还研发薄膜设备，可以说是多管齐下，而且成果都很卓著。
而美国对于中微公司发展如此之快的事实一时无法接受，它们多次打压中微公司的研发及市场发展，甚至还曾经盗取中微公司的专利。
从中微公司成立十几年以来，美国的应用材料、维科等半导体设备公司多次起诉中微公司，认为中微公司窃取其商业机密，并且在众多产品上都是专利侵权。但是事实是，每场官司都以中微公司最终的胜利而结束，因为以防万一，中微公司的很多研发成果早就在国内申请了专利，所有的诉讼都是污蔑。而真正盗取专利的是美国的维科公司，他们所窃取的中微公司的专利设备在离开中国本土前，被海关扣留，经过后期的调查显示，维科确实是窃取的一方，最后不得已和中微公司进行谈判达成了和解。
中微公司多年来发展越来越好，其主要原因是，他们非常重视专利权，在维护专利权上，他们做到，每一位员工都要签署保密协议，同时对于其他公司或者公司的专利权有严格的禁令，禁止触碰违法的边缘线。同时经过与美国多年来的交手，他们在应对对手上有一套自己的保护措施。最重要的是，不管他们多么优秀，他们都坚持一点，法律神圣不能侵犯。
中微公司在尹志尧等人的带领下已经有了一套严格的管理制度，更重要的是他们在刻蚀工艺上一直都在寻求新的发展和突破，居高不傲这是强者的姿态。相信未来，我国的刻蚀工艺仍然会引领世界。
出了在刻蚀工艺上的贡献，我国的IC 制造其他设备的研发上也有很大的发展，上海微电子装备有限公司研发出了65nm光刻机，北微研制出了先进的薄膜设备。我国的半导体设备研发正在一步步的迈向世界最高峰，未来可期。
在如今互联网发展迅猛的今天，可能已经很少有人再去回忆那个半导体的时代，但其实如果没有半导体产业的发展基础，我们现在正经历的互联网时代就可能不会到来。我们现在所使用的电脑、手机等等，其实其核心技术都是用硅制造的。而半导体的研发则主要就是单晶硅片的制造、IC设计、IC制造和IC封测等的研发。而所有这些研发都需要有很重要的软件和硬件装备。
单晶炉等设备是研发单晶硅片的最主要设备，而光刻机、刻蚀机、薄膜设备等则主要是为了IC制造而存在。目前荷兰是光刻机设备的主要制造商，中国在IC制造上，所持有的设备是蚀刻机设备，而我国现在掌握的蚀刻机设备技术在世界上都属于数一数二的水平。
我国的刻蚀机设备技术的成功要发要从尹志尧创立的中微半导体设备（上海）有限公司说起，当年，尹志尧从中国科学技术大学毕业后，在美国的企业任职，他主要从事的职业便是和电浆蚀刻有关，同时，在国外工作的几十年，他在半导体领域获得了高达60多项的专利。在一次设备展上，上海经委副主任江上舟偶遇尹志尧，江上舟谈到国家多年来在刻蚀机工艺上一直受制于人，无法自发研制属于自己的刻蚀机设备，他希望尹志尧能回国和他一起为国家填补这项技术空白，尹志尧毫不犹豫的选择回国，与江上舟共同创建了中微半导体设备（上海）有限公司，当年尹志尧已经60岁高龄。很快，2008年，中微公司便研发出了12英寸的刻蚀设备。随着科学技术的发展，社会对于刻蚀设备的要求越来越高，中微公司在刻蚀设备的研发上，主要攻关的是介质刻蚀工艺，相当于在一颗米粒上雕刻十亿个字的工艺水准，这种技术在世界上都是绝对领先的工艺。中微公司的先进工艺已经在全国各地拿到了众多订单。
中微公司在刻蚀工艺上仍然在不断探索，2017年，中国早美国一步宣布掌握5nm技术，中国在刻蚀工艺设备的研发上第一次超越美国，站在了世界最高峰。中微公司创立于2004年，而2018年，我国的刻蚀工艺就站在了世界最高点，我国仅用14年的时间就打破美国对我国刻蚀工艺的封锁，成功逆袭。
中微公司的脚步仍然没有停止，他们除了主要研发介质刻蚀外，还关注硅刻蚀、金属刻蚀，同时还研发薄膜设备，可以说是多管齐下，而且成果都很卓著。
而美国对于中微公司发展如此之快的事实一时无法接受，它们多次打压中微公司的研发及市场发展，甚至还曾经盗取中微公司的专利。
从中微公司成立十几年以来，美国的应用材料、维科等半导体设备公司多次起诉中微公司，认为中微公司窃取其商业机密，并且在众多产品上都是专利侵权。但是事实是，每场官司都以中微公司最终的胜利而结束，因为以防万一，中微公司的很多研发成果早就在国内申请了专利，所有的诉讼都是污蔑。而真正盗取专利的是美国的维科公司，他们所窃取的中微公司的专利设备在离开中国本土前，被海关扣留，经过后期的调查显示，维科确实是窃取的一方，最后不得已和中微公司进行谈判达成了和解。
中微公司多年来发展越来越好，其主要原因是，他们非常重视专利权，在维护专利权上，他们做到，每一位员工都要签署保密协议，同时对于其他公司或者公司的专利权有严格的禁令，禁止触碰违法的边缘线。同时经过与美国多年来的交手，他们在应对对手上有一套自己的保护措施。最重要的是，不管他们多么优秀，他们都坚持一点，法律神圣不能侵犯。
中微公司在尹志尧等人的带领下已经有了一套严格的管理制度，更重要的是他们在刻蚀工艺上一直都在寻求新的发展和突破，居高不傲这是强者的姿态。相信未来，我国的刻蚀工艺仍然会引领世界。
出了在刻蚀工艺上的贡献，我国的IC 制造其他设备的研发上也有很大的发展，上海微电子装备有限公司研发出了65nm光刻机，北微研制出了先进的薄膜设备。我国的半导体设备研发正在一步步的迈向世界最高峰，未来可期。
